常德供应HEDP二钠
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产品描述

折叠电镀涂饰
通过赫尔槽试验和方槽试验,研究了不同主盐对 HEDP (羟基亚乙基二膦酸)体系电镀铜沉积速率、电流效率、镀层外观、厚度、结合力等的影响。镀液组成为:HEDP 160 g/L,Cu2+10 g/L,K2CO360 g/L,pH 9.0。结果表明,由于阴离子不同,铜盐种类会影响电镀过程和镀层性能。HEDP 体系镀铜液的良好主盐为CuSO4·5H2O。以CuSO4·5H2O为主盐时,电流效率为92.5%,镀速为0.18μm/min,所得铜镀层表面平整、致密,与钢铁基体的结合力良好。本品具有阻垢缓蚀效果好,并具有耐高温,抗氧化性好,低毒等特点,主要用于工业循环冷却水的阻垢和缓蚀,由于本品能同铁、铜、铝、锌等多种金属离子形成稳定的络合物,所以可以用于清洗锅炉和管道中铁锈,无机盐垢。

基本信息本品具有阻垢缓蚀效果好,并具有耐高温,抗氧化性好,低毒等特点,主要用于工业循环冷却水的阻垢和缓蚀,由于本品能同铁、铜、铝、锌等多种金属离子形成稳定的络合物,所以可以用于清洗锅炉和管道中铁锈,无机盐垢。

基本信息
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折叠材料保护
为了提高钢铁基体上羟基亚乙基二膦酸(HEDP)镀铜层的结合强度,采用电化学工作站进行阴极极化曲线和恒电流电位-时间曲线的测定,应用弯曲折断法进行临界起始电流密度(即保证镀层结合强度的小初始电流)的测定和镀层结合强度的定量测定,探讨了辅助配位剂及相关工艺参数对镀层结合强度的影响。结果表明:辅助配位剂的加入提高了铜析出时的阴极极化,降低了临界起始电流密度,当用1A/dm2的电流密度进行起始电镀时,可使铁的表面在铜沉积前得到更充分的活化,使铜镀层与铁基体的结合强度提高到6416.38N/cm2,已接近铜上电镀铜的水平。介绍了电镀层结合强度的定量测定方法,探讨了提高镀层结合强度的电位活化机理。
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HEDP二钠
羟基乙叉二膦酸四钠(HEDP.Na2),化学用品,一种有机磷酸类阻垢缓蚀剂,能与铁、铜、锌等多种金属离子形成稳定的络合物,能溶解金属便面的氧化物。
HEDP·Na2是一种有机磷酸类阻垢缓蚀剂,能与铁、铜、锌等多种金属离子形成稳定的络合物,能溶解金属表面的氧化物。HEDP·Na2在250℃下仍能起到良好的缓蚀阻垢作用,在高pH值下仍很稳定,不易水解,一般光热条件下不易分解。耐酸碱性、耐氯氧化性能较其它有机磷酸(盐)好。可与水中金属离子,尤其是钙离子形成六圆环螯合物,因而具较好的阻垢效果并具明显的溶限效应,当和其它水处理剂复合使用时,表现出理想的协同效应。
HEDP二钠
羟基乙叉二膦酸四钠(HEDP.Na2),化学用品,一种有机磷酸类阻垢缓蚀剂,能与铁、铜、锌等多种金属离子形成稳定的络合物,能溶解金属便面的氧化物。
HEDP·Na2是一种有机磷酸类阻垢缓蚀剂,能与铁、铜、锌等多种金属离子形成稳定的络合物,能溶解金属表面的氧化物。HEDP·Na2在250℃下仍能起到良好的缓蚀阻垢作用,在高pH值下仍很稳定,不易水解,一般光热条件下不易分解。耐酸碱性、耐氯氧化性能较其它有机磷酸(盐)好。可与水中金属离子,尤其是钙离子形成六圆环螯合物,因而具较好的阻垢效果并具明显的溶限效应,当和其它水处理剂复合使用时,表现出理想的协同效应。
常德供应HEDP二钠
从常用水处理药剂中选择3种有机膦药剂PBTCA(2-膦酸基丁烷-1,2,4-三羧酸)、HEDP(羟基亚乙基二膦酸)、ATMP(氨基三亚甲基膦酸)与ClO2、ZnSO4复配,通过正交试验确定了良好配方,并利用从头计算法对该配方进行了量子化学计算,分析了缓蚀性能和分子结构的关系.结果表明:P原子净电荷QP、电荷密度、分子的低空轨道能E LUMO与缓蚀率有较好的相关性.同时,计算了Fe和ClO2的高占有轨道能E HOMO和低空轨道能E LUMO以及二者的差值△E,说明缓蚀剂供出电子与Fe作用的趋势要大于接受电子与Fe作用的趋势,而且PBTCA、HEDP和ATMP耐二氧化氯氧化的能力与缓蚀剂低空轨道能与二氧化氯高占有轨道能的差值(LUMOinhib-HOMOClO2值)有较好的相关性。
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